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一、2T/H反滲透純水設(shè)備概述：
   工業(yè)純水設(shè)備主要是用于工業(yè)生產(chǎn)用水的純水制取裝置。工業(yè)純水設(shè)備包括反滲透設(shè)備、離子交換設(shè)備、EDI高純水設(shè)備，用在不同的行業(yè)其采用的過濾方法不同，工藝流程也不一樣。工業(yè)純水機(jī)可以用于：飲用水、瓶裝水、食品工業(yè)用水、半導(dǎo)體工業(yè)、精細(xì)化工、光學(xué)工業(yè)用水、電鍍用水、鋁氧化用水、化妝品護(hù)膚品生產(chǎn)用水、洗手液洗衣液生產(chǎn)用去離子水、洗洗潔精等洗滌劑工業(yè)用DI去離子水、醫(yī)藥用水、透析醫(yī)療用水、代替各類蒸餾水及超純水供水等

二、2T/H 反滲透純水設(shè)備在工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用：
   純水在電子工業(yè)尤其是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出，純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品合格率及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器件生產(chǎn)中，高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途不同，因此對(duì)水質(zhì)的要求也不同。
    在電解電容器生產(chǎn)中，鋁箔及工作件的清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。在電子管生產(chǎn)中，電子管陰極涂敷碳酸鹽，如其中混入雜質(zhì)，就會(huì)影響電子的發(fā)射，進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會(huì)引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍;含有機(jī)物膠體、微粒、細(xì)菌等，就會(huì)降低熒光層強(qiáng)度及其與玻殼的粘附力，并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個(gè)工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個(gè)工序需使用純水，每生產(chǎn)一個(gè)顯像管需用純水80kg。

    液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì)，就會(huì)使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質(zhì)量，導(dǎo)致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產(chǎn)對(duì)純水水質(zhì)的要求見表1。在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的 80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。

     水中的堿金屬(K、Na等)會(huì)使絕緣膜耐壓不良，重金屬 (Au、Ag、Cu等)會(huì)使PN結(jié)耐壓降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞，水中的顆粒(包括細(xì)菌)如吸附在硅片表面，就會(huì)引起電路短路或特性變差。集成電路生產(chǎn)對(duì)純水水質(zhì)的要求見表2。

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