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 很多生產(chǎn)企業(yè)對純水設(shè)備的原理和應(yīng)用可能還存在一些認(rèn)識不全和偏見，綠健水處理公司就遇到過一個做電子廠，堅持使用多級可再生混床水來進(jìn)行晶體的生 產(chǎn)，但水質(zhì)不穩(wěn)、而且維護(hù)起來特別麻煩，后來經(jīng)過我們的了解，我們給他提供了采用反滲透加EDI技術(shù)的超純水設(shè)備，使用起來非常的方便。

 純水設(shè)備現(xiàn)在有幾種主要工藝：

 預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－混合離子交換床－精至核能混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

 預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(最新工藝)

 預(yù)處理－一級反滲透－加藥機（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥17MΩ.CM）(最新工藝)

 預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(最新工藝)

 預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

EDI純水模塊和RO反滲透在純水中的應(yīng)用

 RO、EDI、離子交換樹脂是當(dāng)今制備純水的必選工藝設(shè)備。其中RO反滲透是當(dāng)今一項最實用的膜分離技術(shù)，是依靠反滲透膜在壓力下使溶液中的溶劑與溶質(zhì)進(jìn)行分離的過程?？捎行У厝コ?中的重金屬離子、鹽類、細(xì)菌等，去除率達(dá)到98%以上；EDI連續(xù)電除鹽設(shè)備ContinuousElectrodeionization（電解式連續(xù)去 離子）為模塊式設(shè)備，可根據(jù)需要任意組合，該系統(tǒng)不需要停機再生，無需酸堿，因此廢水排放問題也得到解決，更符合環(huán)保要求?？蓪⑺碾娮柚涤?0.05-0.1MΩ/cm提升至15-18MΩ/cm。

 EDI裝置現(xiàn)已應(yīng)用在半導(dǎo)體、電廠、電子、制藥、實驗室等領(lǐng)域制備高純水；陰陽離子及混床離子交換水處理設(shè)備是利用陰陽離子樹脂與水中溶解性鹽類離子進(jìn)行離子交換的水處理技術(shù)；根據(jù)最終去除水中陰陽離子及混床離子交換除鹽水系統(tǒng)的交換特性，可將系統(tǒng)分為：單床式離子交換除鹽系統(tǒng)、雙床式離子交換除鹽系統(tǒng)和混床式離子交換除鹽系統(tǒng)。

純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：

  微電子行業(yè):電解電容器生產(chǎn)、電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、液晶顯示器的生產(chǎn)、晶體管生產(chǎn)、集成電路生產(chǎn)、電子新材料生產(chǎn)；

 醫(yī)藥行業(yè)：醫(yī)藥注射用無菌水生產(chǎn)、口服液生產(chǎn)、藥劑生產(chǎn)純化水、血液透析用水

化學(xué)化工：超純化學(xué)試劑生產(chǎn)化工新材料生產(chǎn)；

 其它：貴金屬冶煉、磁性材料生產(chǎn)、電子級無塵布生產(chǎn)、光學(xué)材料生產(chǎn)等

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